即用型涂料配方，在濕膜厚度為12微米時，SR值低于200歐姆/平方。

Clevios F 100T

特殊穩定的PEDOT:PSS分散體，適用于在60/90或85/85等苛刻環境測試中提高穩定性的配方和涂料。

CLevios Etch和 CLevios Set S3

用于涂層線路圖案的輔助材料。CLevios Etch是一種水溶性粉末，CLevios Set S3是一種可印刷掩模（絲網印刷）。

賀利氏開發的一種特殊技術，通過濕法工藝對Clevios線路圖案進行處理。生成的線路肉眼幾乎看不見，因此不需要額外的步驟遮蓋，從而降低了成本。掩膜可以通過經濟的絲網印刷、凹板印刷或柔性印刷工藝來完成，或者通過光刻膠來實現更精細的結構。生產過程中，可以通過CCD進行光學檢測，這種特殊分析檢測方式很容易實現。賀利氏可提供技術支持服務。

應用領域：（LCD/OLED/QLED）顯示器、照明、觸控傳感器、車載器件、有機太陽能電池、高分子電容器、抗靜電涂層、印刷電子。

clevios系列可提供用于原位聚合的單體、水基分散體、溶劑與添加劑混合而成的即用型配方材料。

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